Ⅰ. Предназначение оборудования
Данный станок в основном предназначен для двухсторонного полирования кремниевой пластины, пластины арсенида галлии, керамической пластины, кварцевого кристалла, стекла и других жестких хрупких материалов. Данный станок улучшил конструкцию, точность, функцию, надёжность, технологичность оборудования и другие. Станок может полностью удовлетворить требованиям к пользованию клиентов.
Ⅱ. Главные технические параметры
1. Размер полировального круга: φ1155 мм× φ349 мм ×50 мм.
2. Параметры кассеты: дюймовый, Z＝200 DP12 α＝20°
3. Количество кассеты: 5 шт.
4. Минимальная толщина полирования: 0.50мм/φ125 мм，0.40мм/φ100 мм，0.35мм/φ75 мм.
5. Максимальная толщина полирования: 30мм.
6. Максимальный диаметр полирования: φ350 мм.
7. Скорость оборотов нижнего полировального круга: 0～60rpm.
8. Главный электродвигатель: 15kW 380V 1460rpm.
9. Трёхфазный электрический насос: 1/4HP 380V.
10. Габаритный размер: 2000мм×1550мм×2668мм.
11. Масса оборудования: около 6000 кг.
Ⅲ. Точность главной машины
1.Торцевое биение нижнего полировального круга: 0.08 мм
2. Плоскостность верхнего и нижнего полировального круга: 0.03 мм.
3. Радиальное биение солнечного колеса: 0.12мм
4. Радиальное биение зубчатого венца: 0.20мм.
Ⅳ. Способность обработки
1. Несущая способность на единицу: 17 шт/Ф75 мм; 8 шт/Ф100 мм, 5шт/Φ125мм;
2. Несущая способность на целый круг: 85 шт/Φ75мм, 40 шт/Ф100 мм; 25 шт/Ф125 мм.
В нижеследующем описание станка на английском языке:

X62 1118S-1 Polishing Machine
Application:
The machine is mainly used for polishing silicon wafers, gallium arsenide, ceramics, quartz crystal, glass and other hard, fragile flat materials on both sides with high accuracy, reliability and stability. It can satisfy the requirement of users.
Main features:
1. Portal shaped structure reinforce the machine’s rigidity.
2. Equipped with only one motor. The motor drives the upper plate, the lower plate, the inner gear and the sun gear to rotate at the different speed ratio through speed reducer. The carrier makes planetary movement between the upper and lower plates. The carrier can also rotate in the opposite direction.
3. The lower plate can be elevated. It is easy to load or unload work-pieces.
4. Adopt four stage pressuring. They are respectively light pressuring, moderate pressuring, heavy and conditioning pressuring (light pressuring).
5. Equipped with PLC, four-line text display and frequency speed control.The machine is equipped with the interface for work-piece thickness measurement device.
6. Half open slurry collector and guard ring. It is easy to clean the machine.
7. Adopted speed ratio is as per international polishing theory.
Main Specifications:
1. Dimensions of polishing plates (outer dia.×inner dia.×thickness):
Φ1155mm×Φ349mm×50mm
2. Carrier specifications: Z=200 DP12 α=20º (British system)
3. Carrier quantity: 5
4. Thickness of work-pieces (min.): 0.50mm forΦ125mm, 0.4mm for Φ100mm, 0.35mm for Φ75mm
5. Thickness of work-pieces (max.): 30mm
6. Diameter work-pieces (max.): Φ350mm
7. Rotation speed of lower plate: 0～60rpm
8. Main motor: 15kW 380V 1460rpm
9. Pump: 1/4HP 380V
10. Machine dimensions (L×W×H): 2000mm×1550mm×2668mm
11. Machine weight: about 6000kgs
Machine accuracy:
1. End face run-out of lower plate: 0.08mm
2. Flatness of polishing plates: 0.03mm
3. Diameter run-out of sun gear: 0.12mm
4. Diameter run-out of inner gear: 0.20mm
Machine Capacity:
1. one-carrier capacity: 17 pieces of ф75mm or 8 pieces of ф100mm or 5 pieces of ф125mm
2. Total capacity: 85 pieces of ф75mm or 40 pieces of ф100mm or 25 pieces of ф125mm