Ⅰ. Предназначение оборудования
Данный станок в основном применяется для двухстороннего полирования и обработки высокой точности на полупроводники химического соединения (арсенид калия, ниобиевая кислота лития, ниобевая кислота тантала и другие), монокристалл кремния, оптические стекла и электрические материалы, также предназначен для двухстороннего точного полирования и точной обработки плоскопараллельных материалов размером менее 4〃（φ100мм） и других различных материалов с одинаковым размером.
Ⅱ. Основные параметры оборудования
1. Размер верхнего и нижнего полировального круга: φ933мм×φ515мм×50мм.
2. Параметры кассеты: дюймовый, Z＝108 DP12 α=20°.
3. Минимальная толщина полирования: 0.2 мм.
4. Максимальное количество для монтажа кассеты: 9 шт.
5. полировальный диаметр и несущая способность: φ75 мм/4 шт φ100 мм/2 шт.
6. Максимальный полировальный диаметр: φ180мм.
7. Скорость оборотов нижнего круга: 0-60rpm.
8. Давление источника газа: 0.5-0.6MPa.
9. Главный электродвигатель:7.5kW AC380 1460rpm
10. Электродвигатель солнечного колеса: 1.5 kW AC380 1400rpm.
11. Габаритный размер: 1200мм×1600мм×2700мм.
12. Масса оборудования: около 3000 кг.
Ⅲ. Общее техническое требование к оборудованию:
1. Плоскостность нижнего круга менее 0.02 мм.
2. Торцовое биение нижнего круга менее 0.06 мм.